6.再反射加熱法

基本原則 在盒子上鑽一個小孔，從外面加熱。 利用這種加熱方式，還可以製作結構簡單的高溫電爐。 假設盒子內表面的反射率為100%，則照射孔輸入的所有光能都會在照射孔以内的地方反射。 唯一吸收這種光能的物體是盒子內部的物體，所以如果所有的光都能被吸收並轉化為熱能，加熱極限可以達到大約1800℃。 這是一種能夠將紅外線吸收差的物體、較大的物體、分散的物體均勻且有效率地加熱到高溫的方法。 這種加熱方法成功的關鍵在於創造一個高反射率的盒子。 與普通的“爐”不同，熱源和箱子可以分開，因此它們可以在帶式輸送機上内聯使用。 箱加熱也可以是兩件式結構，其中待加熱的物體可以被取出和取出。 另外，盒子的形狀可以是任何形狀，例如三角形，球形或圓柱形，以及如圖所示的正方形。 盒子的內壁理想地是具有高反射率的鏡面，如鍍金，但是可能從待加熱物體產生煙霧，並且難以保持高鏡面。 加熱真空室內部 還有一種使用石英玻璃在真空室中加熱用於照射孔的方法。 由於內部可以製成非氧化性氣氛，因此可以進行非氧化性加熱處理。 或者你可以用特殊氣體進行某種化學反應。 對於需要清潔的電爐特別方便。 由於爐內沒有加熱元件，因此不存在加熱元件產生的污染物，並且內部保持清潔。

基本原則 當加熱相對較寬的區域或均勻加熱板狀材料時，使用圓頂蓋。 在圓頂蓋需要耐久性的時候，能作為圓頂蓋使用本公司的集光鏡。 從照射孔照射的光能照射到被加熱物上，一部分被吸收。 一般來說，高反射材料反射光能且不會產生高溫。 在圓頂加熱的情況下，未吸收的光能在圓頂內多次被重新反射、散射和吸收。 與開放式加熱相比，重複的反射和吸收會導致更高的溫度。 透過用惰性氣體填充圓頂可以進行非氧化加熱。 這種加熱方法對於間歇性運作的輸送設備（例如分度台）特別有效。 防止上升氣流的不利影響 開放式加熱也會加熱加熱物體周圍的空氣，導致空氣熱膨脹並變得更輕，從而產生上升氣流。 常溫和常壓下的空氣流入由於上升氣流而變得稀薄和低壓的空間。 這種流動的空氣與被加熱物體接觸，將其冷卻至室溫，不利於加熱工作。 框架加熱不會產生冷卻空氣流，從而形成有效的加熱環境。 開放加熱和焦光鏡的圓頂加熱比較

基本原則 框架加熱的加熱物體由三個元件加熱。 1.直接從熱源加熱 2.利用牆壁反射光加熱 3.利用牆壁輻射熱加熱 防止上升氣流的不利影響 開放式加熱也會加熱加熱物體周圍的空氣，導致空氣熱膨脹並變得更輕，從而產生上升氣流。 常溫和常壓下的空氣流入由於上升氣流而變得稀薄和低壓的空間。 這種流動的空氣與被加熱物體接觸，將其冷卻至室溫，不利於加熱工作。 框架加熱不會產生冷卻空氣流，從而形成有效的加熱環境。 它還可以用作絕緣部件的掩蔽材料，您不需要加熱。 由於該框架本身在連續使用時變熱，因此其作為掩模材料的有效性降低。 連續使用需要強製冷卻。 高溫加熱法的驗證-開放加熱和框架加熱的差異 如果惰性氣體流入框架，則可以進行無氧化或低氧化處理。 用石英玻璃覆蓋框架頂部將使其更加完美。 開放加熱和框架加熱的比較

基本原則 該圖示出了待加熱物體小且等於或小於鹵素加熱器的冷凝直徑（寬度）的情況。 以簡單的方式製作凹溝，並將待加熱的物體放入凹溝內。 溝加熱的加熱物體由三個元件加熱。 1.熱源直接加熱 2.利用牆壁反射光加熱 3.利用牆壁輻射熱加熱 防止上升氣流的不利影響 開放式加熱也會加熱加熱物體周圍的空氣，導致空氣熱膨脹並變得更輕，從而產生上升氣流。 常溫和常壓下的空氣流入由於上升氣流而變得稀薄和低壓的空間。 這種流動的空氣與被加熱物體接觸，將其冷卻至室溫，不利於加熱工作。 框架加熱不會產生冷卻空氣流，從而形成有效的加熱環境。 高溫加熱方法驗證-開放加熱和溝加熱的比較 如果惰性氣體流入凹溝，則可以進行無氧化或低氧化處理。 用石英玻璃覆蓋凹溝頂部將使其更加完美。 開放照射和溝加熱的比較 以Φ60集光鏡為例，拍攝焦距為30 mm的HPH-60/f30/36v-450w， 由於額定焦距為φ8，因此適用於溝加熱。 通過凹溝加熱可在20秒內達到800°C的時間，但在開放式加熱時不能達到40秒。 當使用逆向反射加熱燈時，高溫區域的伸長率是不同的。

1.縮短距離 加熱器與被加熱物體的距離越近，可以加熱到的溫度就越高。 即使是冷凝加熱，冷凝距離越短，溫度也可以越高。 在 HPH-60 系列鹵素點加熱器中， 即使同樣是450W，依照f30>f60>f105的順序，距離近的話溫度也會升高。 在冷凝加熱中，來自熱源的光被聚焦，但光線也在聚焦範圍之外被散射。 下圖是冷凝式鹵素線加熱器的照片。 雖然光線被聚光鏡聚焦在一個點上，但光線也會散射到聚焦區域之外。 當光被擴散時，它會衰減。 因此，距離越近，加熱效率越好。 這種現像在日常生活中也能觀察到，附近的光源比遠處的光源更亮。 2.垂直角度照射 以平行光型聚光鏡加熱時，中心距相同且照射角度為對角線，照射角度為垂直，加熱面積越小，物體溫度越高。 3.使用不會照射到被加熱物體的光線 反射器用於反射未照射到被加熱物體的光。 反光材料採用高反射率的材料。 透過這樣做，您可以額外加熱「被加熱物體」和「放置加熱物體的表面」。 未被吸收的光再次被反射並有助於被加熱物體的加熱。 另外，由於被加熱物體與放置加熱物體的表面接觸， 放置被加熱物體的表面採用具有良好紅外線吸收性和高導熱性的材料。 表面吸收光併升溫，如果表面變熱，則可以將熱量傳遞給加熱的物體。 即使您不使用反射器，此方法也有效。

高溫加熱方法的概要 鹵素燈集中加熱是利用聚光燈將光能集中到被加熱物體上，達到高溫。 入射到被加熱物體的光中，除去吸收光後的反射光越多，物體的溫度就越低。 僅使用聚光鏡加熱會降低此反射光的使用率。 在高溫加熱方法中，可以透過使用反射材料重新利用該反射光，有助於將物體升高並均勻加熱到高溫。 高反射材料的加熱 紅外線反射率高的材料是紅外線吸收率低的材料。 紅外線吸收率低的材料可以說很難加熱到高溫。 透過重複利用進入材料的反射紅外光，可以將其加熱。 微小材料的加熱 質量越小，加熱時溫度上升越快。 高溫加熱法再反射加熱適用於在高溫下加熱極小的材料，僅使用聚光鏡，就可以達到比加熱方法高得多的溫度。 均一加熱 在使用鹵素燈的冷凝加熱中，熱源是點或線。 因此，通常認為“平面”形狀的加熱是困難的。 透過改變照射距離和移動焦點，可以利用聚光加熱來加熱表面形狀。 採用高溫加熱法，加熱較均勻。 反射材料的材質 鍍金鏡子 它是一種高反射鍍金材料。 鍍金不易變色，具有優異的耐腐蝕性。 鋁研磨鏡子 拋光鋁是一種經濟高效且高反射率的材料。 與鍍金相比，反射率大約低 10%。 它可以重新拋光，因此如果保養得當，可以使用很長時間。