再反射加熱法 – 3.溝加熱

凹溝由絕熱材料製成,並且通過將物體安置在凹溝內來改善加熱物體。

再反射加熱法 - 3.溝加熱

再反射加熱法 - 3.溝加熱

該圖示出了待加熱物體小且等於或小於鹵素加熱器的冷凝直徑(寬度)的情況。
以簡單的方式製作凹溝,並將待加熱的物體放入凹溝內。

再反射加熱法 - 3.溝加熱

溝加熱的加熱物體由三個元件加熱。
1.直接從熱源加熱
2.從牆壁反射加熱,
3.輻射加熱,由反射光加熱並從那裡輻射

防止上升氣流的不利影響

在開放式加熱中,待加熱物體周圍的空氣也被加熱並熱膨脹和減輕,因此產生上升氣流。
常溫和常壓下的空氣流入由於上升氣流而變得稀薄和低壓的空間。
這種流入的空氣不利於加熱工作,因為它接觸並冷卻加熱物體。
溝加熱不會產生冷卻空氣流,從而形成有效的加熱環境。

再反射加熱方式的驗證-平面加熱和溝加熱的差異

再反射加熱法 - 3.溝加熱

再反射加熱法 - 3.溝加熱

如果惰性氣體流入凹溝,則可以進行無氧化或低氧化處理。
用石英玻璃覆蓋凹溝頂部將使其更加完美。


開放照射和溝加熱的比較


再反射加熱法 - 3.溝加熱

以Φ60集光鏡為例,拍攝焦距為30 mm的HPH-60/f30/36v-450w,
由於額定焦距為φ8,因此適用於溝加熱。

通過凹溝加熱可在20秒內達到800°C的時間,但在開放式加熱時不能達到40秒。
當使用逆向反射加熱燈時,高溫區域的伸長率是不同的。
鹵素燈點型加熱器的項

鹵素燈線型加熱器的項

最適合的加熱控制器引導

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