再反射加熱法 – 4.框架加熱

製作一個断熱的框架,將其放在待加熱物體上,以提高加熱效率。

再反射加熱法 - 4.框架加熱

再反射加熱法 - 4.框架加熱

框架加熱的加熱物體由三個元件加熱。
1.直接從熱源加熱
2.從牆壁反射加熱,
3.輻射加熱,由反射光加熱並從那裡輻射

防止上升氣流的不利影響

在開放式加熱中,待加熱物體周圍的空氣也被加熱並熱膨脹和減輕,因此產生上升氣流。
常溫和常壓下的空氣流入由於上升氣流而變得稀薄和低壓的空間。
這種流入的空氣不利於加熱工作,因為它接觸並冷卻加熱物體。
框架加熱不會產生冷卻空氣流,從而形成有效的加熱環境。

它還可以用作絕緣部件的掩蔽材料,您不需要加熱。
由於該框架本身在連續使用時變熱,因此其作為掩模材料的有效性降低。
連續使用需要強製冷卻。

再反射加熱方式的驗證-平面加熱和框架加熱的差異

再反射加熱法 - 4.框架加熱

如果惰性氣體流入框架,則可以進行無氧化或低氧化處理。
用石英玻璃覆蓋框架頂部將使其更加完美。


開放加熱和框架加熱的比較


再反射加熱法 - 4.框架加熱
鹵素燈點型加熱器的項

鹵素燈線型加熱器的項

最適合的加熱控制器引導

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