製作一個断熱的框架，將其放在待加熱物體上，以提高加熱效率。
框架加熱的加熱物體由三個元件加熱。
1.直接從熱源加熱
2.從牆壁反射加熱，
3.輻射加熱，由反射光加熱並從那裡輻射
防止上升氣流的不利影響
在開放式加熱中，待加熱物體周圍的空氣也被加熱並熱膨脹和減輕，因此產生上升氣流。
常溫和常壓下的空氣流入由於上升氣流而變得稀薄和低壓的空間。
這種流入的空氣不利於加熱工作，因為它接觸並冷卻加熱物體。
框架加熱不會產生冷卻空氣流，從而形成有效的加熱環境。
它還可以用作絕緣部件的掩蔽材料，您不需要加熱。
由於該框架本身在連續使用時變熱，因此其作為掩模材料的有效性降低。
連續使用需要強製冷卻。
再反射加熱方式的驗證-平面加熱和框架加熱的差異
如果惰性氣體流入框架，則可以進行無氧化或低氧化處理。
用石英玻璃覆蓋框架頂部將使其更加完美。
開放加熱和框架加熱的比較
